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ASML:EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来

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发表于 2020-2-2 23:17:04 | 显示全部楼层 |阅读模式
  作者:宪瑞
  很多人都知道半导体工艺中光刻机是最核心的,因为它决定了半导体工艺的技术水平,而且本钱能占到整个芯片的1/3。在进入 7nm 节点之后,光刻机也必要升级到 EUV 光刻机,现在仅有荷兰 ASML 公司能造,该公司 CEO 表示 EUV 光刻机非常复杂,没有大概被复制,全球只有 ASML 能生产。
  据荷兰媒体报道,在 1 月 22 日的 ASML 财报集会上,ASML 公司 CEO Peter Wennink 谈到了 EUV 光刻机的题目,他表明说 ASML 是 EUV 光刻机的系统集成商,这套设备集成了全球数百家公司的技术,拥有凌驾 8000 多个零部件,许多零件都是非常复杂的。
  Peter Wennink 表示,以镜头为例(注:物镜系统是光刻机三大核心之一,其他两个是激光系统、工作台),卡尔蔡司为 ASML 提供光学镜头,集成了各种反光镜及光学部件,天下上没有哪家公司能够复制他们的技术。
  Peter Wennink 强调,ASML 的光刻机装有传感器,一旦检测到非常情况就会发出警报。
  根据 ASML 财报的最新财报,2019 年该公司交付了 26 台 EUV 光刻机,远超上一年的 18 台,预计 2020 年交付 35 台 EUV 光刻机,2021 年则会达到 45 台到 50 台的交付量,是 2019 年的两倍左右。

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